在高原子级复杂的样品中，解释电子衍射图案中的散射强度，是极具挑战的，正如多主元素合金的情况一样。例如，简单面心立方simple face-centred cubic (fcc) 及其相关合金的电子衍射图中，散射强度diffuse intensities归因于短程有序、中程有序或各种不同的{111}晶面缺陷，包括薄孪晶、薄六方密排层、Relrod尖峰，以及不完全的ABC堆垛。
今日，巴西 圣保罗大学 (Universidade de São Paulo) Francisco Gil Coury，美国 科罗拉多矿业大学 （Colorado School of Mines）Michael Kaufman等，在Nature上发文，证明了许多这些散射强度均归因于高阶劳厄区 Laue zones反射，包括![]()
分别在 ⟨111⟩ 和 ⟨112⟩ 选区衍射图。在许多简单面心立方fcc材料（包括CdTe、纯Ni和纯Al）中，沿着许多不同带轴显示了类似特征。基于电子衍射理论，解释了这些散射强度，并表明所计算投影高阶劳厄区反射强度很好地匹配了实验观测，并作为偏离其布拉格条件的函数，还证明了这些强度在这些fcc材料中是普遍存在的。最后还提供了系统框架，以确定散射强度的性质和位置，这表明存在着短程有序或中程有序。![]()
On the origin of diffuse intensities in fcc electron diffraction patterns. ![]()
图1: 基于简单面心立方simple face-centred cubic，fcc相，选区电子衍射selected area diffraction patterns，SADPs。
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图2:埃瓦尔德Ewald球和零阶劳厄带zero-order Laue zones，ZOLZ和一阶劳厄带first-order Laue zones，FOLZ投影。
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图3:从[112]到[111]晶向的Tilting实验。
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图4:一阶劳厄带FOLZ投影强度远离000。
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图5:![]()
晶面反射强度分布。
Coury, F.G., Miller, C., Field, R. et al. On the origin of diffuse intensities in fcc electron diffraction patterns. Nature 622, 742–747 (2023). https://doi.org/10.1038/s41586-023-06530-6https://www.nature.com/articles/s41586-023-06530-6声明：仅代表译者个人观点，小编水平有限，如有不当之处，请在下方留言指正！